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快科技2月8日消息， Intel已于日前接受了ASML的第一台新一代高NA EUV光刻机 ，但是台积电一直不为所动，可能要到1nm工艺时代才会跟进。

Intel计划将高NA EUV光刻机用于Intel 18A后的制程节点，也就是超过1.8nm，时间大概在2026-2027年。

Intel此前公布的路线图上，18A之后已经安排了三个新的制程节点，但尚未具体命名。

基辛格透露 其中一个相当于1.5nm工艺 ，预计命名为15A，将在德国工厂量产。