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【资讯】近日，据韩媒 Business Korea 报道，台积电首席执行官魏哲家撇开了原定于 5 月 23 日举行的“台积电 2024 技术研讨会”，前往荷兰访问位于 Eindhoven 的 ASML 总部，以及访问德国 Ditzingen 的工业激光专业公司 TRUMPF。

魏哲家的这一行动可能与台积电目前正在考虑的未来工艺技术有关。据报道，台积电正考虑为划于 2026 年下半年量产的 1.6 纳米产品 A16 之后的工艺引入 High NA EUV 设备。High NA EUV 是一种高数值孔径的极紫外光刻技术，它将有助于实现更小的芯片尺寸和更高的性能。

而ASML 是全球光刻领域的领先企业，其首席执行官 Christophe Fouquet 在社交媒体上透露了魏哲家的访问，并表示他们向魏总介绍了最新的技术和新产品，包括 High NA EUV 设备将如何实现未来的半导体微处理技术。这表明 ASML 在 High NA EUV 设备方面具有领先的技术和产品，并有可能与台积电建立更紧密的合作关系。

魏哲家也访问了德国的 TRUMPF ，这是一家工业激光专业公司。TRUMPF 首席执行官 Nicola Leibinger-Kammüller 也通过社交媒体透露了魏哲家的行踪，并表示其为半导体行业强大的合作伙伴关系。

台积电的张晓强博士在出席阿姆斯特丹举办的技术研讨会曾直言：“ASML 的 High-NA EUV 太贵了，我非常喜欢 High-NA EUV 的能力，但不喜欢它的价格。”

台积电正在考虑引入 High NA EUV 设备以实现更先进的工艺技术，同时也在寻求降低成本的方法。ASML 和 TRUMPF 作为全球领先的半导体制造企业，与台积电建立了更紧密的合作关系，他们将共同推动半导体产业的发展，为公众提供更强大，更便宜的产品。