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Intel:我们1.8nm工艺轻松打败台积电2nm 2年内没对手

 小尚

快科技12月23日消息,据国外媒体报道称,Intel的CEO接受采访时表示,自家的18A制程(1.8nm)比领先台积电N2,在这块他们2年内没有对手。

报道称,英特尔的未来取决于重新获得半导体制造领域的技术领先地位,这位CEO相信这将在两年内实现。

在Intel的CEO看来,其对20A和18A充满信心,主要是因为它们采用了RibbonFET架构,即全栅极 (GAA) 晶体管和背面功率传输技术。

这些技术对于制造2nm芯片的公司来说至关重要,可以在降低功率泄漏的同时实现更高的逻辑密度和时钟速度。

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